特許
J-GLOBAL ID：200903077195972344

硬質皮膜

発明者：
石川 剛史

石川 剛史 について


出願人/特許権者：
日立ツール株式会社

日立ツール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-360269
公開番号（公開出願番号）：特開2005-126736
出願日： 2003年10月21日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】耐高温酸化特性に優れ、高硬度を有しながら、基体との密着性に極めて優れる硬質皮膜並びに硬質皮膜被覆工具を提供することを目的とする。【解決手段】アーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は(AlxCr1-x-ySiy)(N1-α-β-γBαCβOγ)但し、x、y、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<x<0.85、0≦y<0.35、0.50≦x+y<1.0、0≦α<0.15、0≦β<0.65、0.003<γ<0.2、0<α+β+γ<1.0で示される少なくとも1層以上からなり、X線回折測定において岩塩構造型の結晶構造を有し、(111)面又は(200)面の何れかの回折ピークの2θの半価幅が0.5度以上、2.0度以下であり、該硬質皮膜内の酸素は、結晶粒子内部よりも結晶粒子界面に多く存在することを特徴とする硬質皮膜である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
アーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は(AlxCr1-x-ySiy)(N1-α-β-γBαCβOγ)但し、x、y、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<x<0.85、0≦y<0.35、0.50≦x+y<1.0、0≦α<0.15、0≦β<0.65、0.003<γ<0.2、0<α+β+γ<1.0で示される少なくとも1層以上からなり、X線回折測定において岩塩構造型の結晶構造を有し、(111)面又は(200)面の何れかの回折ピークの2θの半価幅が0.5度以上、2.0度以下であり、該硬質皮膜内の酸素は、結晶粒子内部よりも結晶粒子界面に多く存在することを特徴とする硬質皮膜。
IPC (2件)：
C23C14/06 ,  C23C14/32
FI (2件)：
C23C14/06 L ,  C23C14/32 Z
Fターム (8件)：
3C046FF13 ,  3C046FF21 ,  4K029AA02 ,  4K029AA29 ,  4K029BA64 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029DD06
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特許第3027502号公報
  • 特許第3039381号公報
  • 工具の表面処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-357450   出願人：トーヨーエイテック株式会社, 和興産業株式会社
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM