特許
J-GLOBAL ID:200903077209596057
構造複製方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
青山 葆
, 山本 宗雄
, 西下 正石
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-131247
公開番号(公開出願番号):特開2007-301790
出願日: 2006年05月10日
公開日(公表日): 2007年11月22日
要約:
【課題】成形対象である組成物が比較的高粘度であっても、構造が正確に複製される、構造複製方法及び装置を提供すること。【解決手段】表面と裏面とを有し、表面に複製対象である構造の反転形状を有するフィルム状製造用具を提供する工程;該フィルム状製造用具の表面に、減圧を適用する工程;該反転形状を密閉することにより、適用された減圧度を維持する工程;該反転形状に、成形対象である組成物を、十分な液圧をかけて充填する工程;及び充填された該対象組成物を基材の上に固化転写する工程;を包含する構造複製方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
表面と裏面とを有し、表面に複製対象である構造の反転形状を有するフィルム状製造用具を提供する工程;
該フィルム状製造用具の表面に、減圧を適用する工程;
該反転形状を密閉することにより、適用された減圧度を維持する工程;
該反転形状に、成形対象である組成物を、十分な液圧をかけて充填する工程;及び
充填された該対象組成物を基材の上に固化転写する工程;
を包含する構造複製方法。
IPC (3件):
B29C 39/14
, B29C 59/04
, B05C 5/02
FI (3件):
B29C39/14
, B29C59/04 C
, B05C5/02
Fターム (30件):
4F041AA12
, 4F041AB01
, 4F041CA02
, 4F041CA21
, 4F204AC05
, 4F204AF01
, 4F204AG01
, 4F204AG05
, 4F204AM28
, 4F204EA03
, 4F204EB02
, 4F204EB29
, 4F204EF01
, 4F204EF23
, 4F204EK06
, 4F204EK07
, 4F204EK09
, 4F204EK24
, 4F209AC05
, 4F209AF01
, 4F209AG01
, 4F209AG05
, 4F209PA01
, 4F209PA05
, 4F209PB02
, 4F209PC05
, 4F209PN07
, 4F209PN09
, 4F209PQ06
, 4F209PQ09
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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エンボス光回折パターンを製造する方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願平10-540269
出願人:メタライズド・プロダクツ・インコーポレイテッド
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特開昭61-220759
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塗工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-251254
出願人:大日本印刷株式会社
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特開昭58-059010
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塗布装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-315107
出願人:コニカ株式会社
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