特許
J-GLOBAL ID：200903077229600913
インクジェット機能を有する半導体装置およびその製造方法、該半導体装置を使用するインクジェットヘッド、インクジェット記録装置、および情報処理システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-264636
公開番号（公開出願番号）：特開2000-153613
出願日： 1999年09月17日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、インク供給口とインク吐出エネルギー素子との間の距離精度が向上した半導体装置およびその製造方法、該半導体装置を実装したインクジェットヘッド、該インクジェットヘッドを固定、あるいは着脱自在に搭載するインクジェット記録装置、さらに該記録装置を出力手段とする情報処理システムを提供する。【解決手段】 インクジェット機能を有する半導体装置は、無欠陥層(DZ)と酸素析出物(OP)が存在する層とを有するシリコン基板と、その上にインク吐出エネルギー発生素子が設けられ、さらに該シリコン基板を貫通するスルーホールからなるインク供給口と、シリコン基板上に積層された流路形成層および吐出口形成層から形成されたインク流路および吐出口を有する。
請求項（抜粋）：
インクジェット機能を有する半導体装置であって、無欠陥層(DZ)と酸素析出物(OP)が存在する層とを有するシリコン基板と、前記シリコン基板上に設けられたインク吐出エネルギー発生素子と、前記シリコン基板に形成されたスルーホールからなるインク供給口と、前記シリコン基板上に積層された流路形成層から形成され、前記インク吐出エネルギー発生素子に対応して配され、かつ前記インク供給口と連通するインク流路と、前記流路形成層上に積層された吐出口形成層から形成され、かつ前記インク流路と連通するインク吐出口と、を有することを特徴とする半導体装置。
IPC (3件)：
B41J 2/05
, B41J 2/16
, H01L 21/322
B41J 3/04 103 B
, H01L 21/322 Y
, B41J 3/04 103 H
