電磁輻射の波面を処理するための位相角制御静止要素

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：三好秀和 , 伊藤正和
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-530821
公開番号（公開出願番号）：特表2005-536776
出願日： 2003年07月14日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：

電磁輻射の波面を処理するための再構成可能静止要素である。この要素は、結晶状態と非結晶状態との間で可逆的に変質可能な相変化材料を含む。結晶化度に勾配を持たせることにより、本要素の相変化材料に位相テーパを保存する。この位相テーパは、反射または再放射電磁輻射の位相角制御を提供する。電磁輻射の入射波面は、本要素と相互作用し、保存した位相テーパが制御する伝搬特性を付与され、再放射される。本要素は、非正反射効果、操縦効果、集束効果、脱集束効果、対称および非対称断面効果、および波面修正効果を提供できる。好適実施例において、相変化材料の結晶母材内に非結晶マークパターンを形成する。マークの大きさ、形状、間隔、対称性、および分布を制御することにより、1以上の方向における様々な強さの結晶化度勾配を形成でき、波面処理を行う位相テーパを提供できる。本要素にマークパターンを形成する装置も提供する。

請求項（抜粋）：

入射電磁輻射の波面を変更して反射電磁輻射を生成するための位相角制御静止要素であって、前記要素は相変化材料から成り、前記相変化材料は結晶状態と非結晶状態とを有し、前記相変化材料は複数のデータセルを含み、前記データセルは前記入射電磁輻射の波長を超える断面寸法を有さず、前記データセルは前記相変化材料の前記結晶状態の母材から成ると共に1以上のマークをその中に分散配置し、前記マークの各々は基本的に前記相変化材料の前記非結晶状態から成り、前記マークの全ては前記相変化材料内においてパターンを形成し、前記パターンは1以上の結晶化度勾配を提供し、前記結晶化度勾配は少なくとも2つの前記データセルに渡って延び、前記結晶化度勾配の前記少なくとも2つのデータセルの各々は異なる部分結晶化度を有し、前記結晶化度勾配は保存位相テーパを提供し、前記保存位相テーパは前記入射波面の2以上の異なる点において位相角に異なる大きさの影響を与えることにより前記反射輻射を提供する、前記位相角制御静止要素。

IPC (4件)：

G02B26/06 , G02B6/32 , G02B6/42 , G02F1/31

FI (4件)：

G02B26/06 , G02B6/32 , G02B6/42 , G02F1/31

Fターム (13件)：

2H041AA23 , 2H041AB38 , 2H041AC07 , 2H041AZ08 , 2H137AA04 , 2H137AB06 , 2H137BA01 , 2H137BC12 , 2H137BC51 , 2K002AB04 , 2K002BA01 , 2K002CA02 , 2K002EA30

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-304414
特開平4-115214
光スイッチおよび光スイッチの駆動方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-378358 出願人：ソニー株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

前のページに戻る