ポリッシング装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-116292
公開番号（公開出願番号）：特開平10-044040
出願日： 1997年04月18日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】人手を用いることなく自動的に速やかに漏液を検知し、かつ漏液を停止することができる漏液監視装置を備えたポリッシング装置を提供する。【解決手段】半導体ウエハ等のポリッシング対象物を研磨するポリッシング装置において、ポリッシング対象物を研磨するポリッシング部60と、ポリッシング部60によって研磨されたポリッシング対象物を洗浄する洗浄部80とを備え、ポリッシング部60と洗浄部80のそれぞれに漏液の発生を検知する漏液センサ131,133を取り付け、いずれかの漏液センサ131,133が漏液を検知した際に、漏液が発生した当該ポリッシング部60又は洗浄部80への液体の供給を停止せしめる制御手段を設けた。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハ等のポリッシング対象物を研磨するポリッシング装置において、ポリッシング対象物を研磨するポリッシング部と、前記ポリッシング部によって研磨されたポリッシング対象物を洗浄する洗浄部とを備え、前記ポリッシング部と前記洗浄部のそれぞれに漏液の発生を検知する漏液センサを取り付け、いずれかの漏液センサが漏液を検知した際に、漏液が発生した当該ポリッシング部又は洗浄部への液体の供給を停止せしめる制御手段を設けたことを特徴とするポリッシング装置。

IPC (2件)：

B24B 57/00 , B24B 55/03

FI (2件)：

B24B 57/00 , B24B 55/03

引用特許：

審査官引用 (8件)

特公平7-070507
特公平7-070507
特公平5-030592

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