特許
J-GLOBAL ID：200903077273096335
連続真空浸炭炉の仕切扉
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
河内 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032200
公開番号（公開出願番号）：特開2002-235164
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】連続真空浸炭炉における、室と室を区切る仕切扉を、昇温室、浸炭室及び拡散室、又は浸炭拡散室、が約1000°Cの高温と浸炭ガスにさらされても、仕切扉の熱変形を最小限にし、全体を約1000°Cの高温に耐える耐熱性を持つ仕切扉とすることなく、浸炭されるた仕切扉の部分を交換できる仕切扉を提供。【解決手段】仕切扉1は、仕切扉本体10と、仕切扉本体10の両面に室の開口部4、5を覆う耐熱・耐浸炭性被覆材11を取付け、かつ仕切扉支持枠17に設けた円周切欠13内に配置され、周状に内方に向けて配置された複数個のL字形固定部材12により僅かな横方向隙間をもって挟み込みされ、円周切欠13内周とは半径方向の隙間 dを有するようにされている。
請求項（抜粋）：
昇温室、浸炭室及び拡散室、又は浸炭拡散室、を含む鉄合金部品の連続真空浸炭炉に於いて、少なくとも前記室と室を区切る仕切扉の1を、仕切扉本体と、前記仕切扉本体両面に前記室と室の各開口部を覆う耐熱・耐浸炭性被覆材を取付け、かつ前記仕切扉本体外周は、仕切扉支持枠に設けた円周切欠内に配置され、周状に内方に向けて配置された複数個のL字形固定部材により僅かな横方向隙間をもって挟み込みされ、前記円周切欠とは半径方向の隙間を有することを特徴とする連続真空浸炭炉の仕切扉。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
4K028AA01
, 4K028AC03
, 4K028AC04
, 4K051AA04
, 4K051AB07
, 4K051MB04
, 4K051MB13
出願人引用 (2件)
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連続真空浸炭方法および装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-043881
出願人：株式会社不二越
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コークス炉蓋
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-140860
出願人：株式会社スリーボンド, 三石耐火煉瓦株式会社
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