特許
J-GLOBAL ID：200903077293818442
研磨方法及び研磨装置並びに磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288854
公開番号（公開出願番号）：特開平11-221742
出願日： 1998年09月26日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】【課題】 ガラス基板表面の高清浄化を高いレベルで達成しうる研磨方法及び研磨装置等の提供する。【解決手段】 中心部に円孔を有する円板状のガラス基板(MD基板1)を遊離砥粒を含有した研磨液50に浸漬し、前記ガラス基板の内周端面を、遊離砥粒を含有した研磨液を用いて研磨ブラシ4又は研磨パッドと回転接触させて研磨する。
請求項（抜粋）：
中心部に円孔を有する円板状体の内周端面及び/又は外周端面を、遊離砥粒を含有した研磨液を用いて研磨することを特徴とする研磨方法。
IPC (5件)：
B24B 5/04
, B24B 5/313
, C03C 19/00
, G11B 5/82
, G11B 5/84
B24B 5/04
, B24B 5/313 Z
, C03C 19/00 A
, G11B 5/82
, G11B 5/84 A
