レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-312671
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092680
出願日： 1993年11月18日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及びプロセス余裕度などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)スルホン酸アミド化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)スルホン酸アミド化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/023 511 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-162040
感度安定化ポジ作用性フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-112062 出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
パターン形成用材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-347042 出願人：ヘキストジャパン株式会社

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