特許
J-GLOBAL ID：200903077334595844

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について

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児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

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阿出川 豊

阿出川 豊 について

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青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051687
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242626
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：
【要約】【課題】 高い解像力を有し、ハーフトーン位相差シフトマスク適性(サイドロープ光耐性)が良好な遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B-1)第1の特定構造および第2の特定構造で表される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種と第3の特定構造を有する繰り返し単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、(B-2)第4の特定構造を有する繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B-1)下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で表される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種と下記一般式(II)で表される繰り返し単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、(B-2)下記一般式(pA)で表される繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(Ia)中:R1、R2は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR5、-CO-NH-R6、-CO-NH-SO2-R6、置換されていてもよい、アルキル基、アルコキシ基あるいは環状炭化水素基、又は下記-Y基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-又は-NHSO2NH-を表す。ここで、R5は、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状炭化水素基又は下記-Y基を表す。R6は、置換基を有していてもよい、アルキル基又は環状炭化水素基を表す。Aは単結合又は2価の連結基を表す。-Y基;【化2】(-Y基中、R21〜R30は、各々独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。a,bは1又は2を表す。)式(Ib)中:Z2は、-O-又は-N(R3)-を表す。ここでR3は、水素原子、水酸基又は-OSO2-R4を表す。R4は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。式(II)中:R11,R12は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Zは、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。【化3】ここで、Rは、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する置換もしくは非置換の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。複数のRは、各々同じでも異なっていてもよい。Aは、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、又はウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせを表す。Raは、下記式(pI)〜(pVI) のいずれかの基を表す。【化4】(式中、R111は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R112〜R116は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R112〜R114のうち少なくとも1つ、もしくはR115、R116のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R117〜R121は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R117〜R121のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R119、R121のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R122〜R125は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R122〜R125のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。)
IPC (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C07C 69/753 ,  C08L 33/04 ,  C08L 35/02 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C07C 69/753 Z ,  C08L 33/04 ,  C08L 35/02 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (38件)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ30 ,  4H006BR10 ,  4J002BG01X ,  4J002BG04X ,  4J002BG05X ,  4J002BG07X ,  4J002BG12W ,  4J002BG12X ,  4J002BH02W ,  4J002BK00W ,  4J002EB006 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ006 ,  4J002EU186 ,  4J002EU226 ,  4J002EV216 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002EY006 ,  4J002EZ006 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03
引用特許：
審査官引用 (4件)
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