特許
J-GLOBAL ID：200903077410328206

撮像装置及び撮像方法

発明者：
橋本 仁史

橋本 仁史 について


出願人/特許権者：
オリンパス光学工業株式会社

オリンパス光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-124426
公開番号（公開出願番号）：特開2003-319251
出願日： 2002年04月25日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】 レリーズタイムラグを短くしながら精度の高い露出制御を行うことのできる撮像装置及び撮像方法を提供する。【解決手段】 スルー画を表示しつつ測光して露出演算を行い該スルー画表示のための露出を制御するスルー画露出制御ステップと、スルー画露出制御ステップでの露出演算結果に基づいて絞り制御手段により絞りを調節して測光して露出演算を行い露出を制御する1段露出制御ステップとを備え撮像方法である。
請求項（抜粋）：
撮影レンズの絞りを制御する絞り制御手段と、スルー画を表示しつつ測光して露出演算を行い、該スルー画表示のための露出を制御するスルー画露出制御手段と、前記スルー画露出制御手段による露出演算結果に基づいて、前記絞り制御手段により絞りを調節して測光し、露出演算を行って露出を制御する1段露出制御手段とを備えたことを特徴とする撮像装置。
IPC (4件)：
H04N 5/235 ,  G03B 7/085 ,  H04N 5/335 ,  H04N101:00
FI (4件)：
H04N 5/235 ,  G03B 7/085 ,  H04N 5/335 Q ,  H04N101:00
Fターム (14件)：
2H002CC21 ,  5C022AA13 ,  5C022AB02 ,  5C022AB12 ,  5C022AB17 ,  5C022AC42 ,  5C022AC52 ,  5C022AC69 ,  5C022AC74 ,  5C024BX01 ,  5C024CX13 ,  5C024CX15 ,  5C024CX56 ,  5C024HX50
引用特許：
審査官引用 (5件)
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