特許
J-GLOBAL ID:200903077501803268

シリカ粒子及びシリカ粒子内添紙

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 河澄 和夫 ,  小田 淳子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-083767
公開番号(公開出願番号):特開2005-272155
出願日: 2004年03月23日
公開日(公表日): 2005年10月06日
要約:
【課題】 第1の課題は、中空構造を有するシリカ粒子であって、これを填料として紙に内添した場合、抄紙機でカレンダー処理を受けても、その中空構造が潰れにくいために紙を低密度化できる嵩高性が特に優れ、また高い吸油性を有し、更に紙の平滑性を高くできる中空構造を有するシリカ粒子の提供にあり、第2の課題は該シリカ填料を配合した低密度、かつ印刷後不透明が高く、高平滑性の紙の提供にある。【解決手段】 一次粒子が凝集して二次粒子を形成している軽質炭酸カルシウム粒子とケイ酸アルカリ水溶液との混合液に鉱酸を添加し、ケイ酸アルカリ水溶液からシリカを析出させ、軽質炭酸カルシウム-シリカ複合物を作り、次いで、酸の添加により、該複合物から軽質炭酸カルシウムを溶解させ、シリカ粒子を得る。また該シリカ粒子を内添し抄紙することにより、低密度、かつ印刷後不透明度が高く、高平滑性の紙を得る。
請求項(抜粋):
中空構造を有するシリカ粒子であって、一次粒子が凝集して二次粒子を形成している軽質炭酸カルシウム粒子とケイ酸アルカリ水溶液を混合後、該混合液に鉱酸を添加してpH=7〜9まで中和することにより軽質炭酸カルシウム-シリカ複合物を生成させ、該複合物スラリーに酸を添加しpHを4.0以下にすることにより軽質炭酸カルシウムを溶解させて得られる、中空構造を有するシリカ粒子。
IPC (2件):
C01B33/18 ,  D21H17/68
FI (2件):
C01B33/18 Z ,  D21H17/68
Fターム (22件):
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB16 ,  4G072GG01 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ15 ,  4G072KK07 ,  4G072SS01 ,  4G072SS11 ,  4G072SS12 ,  4G072SS14 ,  4G072TT01 ,  4G072UU25 ,  4L055AG18 ,  4L055AG94 ,  4L055AG98 ,  4L055AH01 ,  4L055BD10 ,  4L055EA16 ,  4L055FA12 ,  4L055FA14 ,  4L055FA16
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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