特許
J-GLOBAL ID：200903077522649293
バッチプロセス解析システムおよびバッチプロセス解析方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-169214
公開番号（公開出願番号）：特開2009-009300
出願日： 2007年06月27日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：
【課題】マハラノビス・タグチメソッドを使用することにより、バッチプロセスの状況を容易かつ迅速に解析できる状況解析システムおよび状況解析方法を提供する。【解決手段】データ蓄積手段51は、バッチプロセスから得られたバッチデータを蓄積する。基準空間作成手段52は、データ蓄積手段51に蓄積された上記バッチデータに基づいて基準空間を作成する。データ取得手段53は、解析対象となるバッチプロセスからバッチデータを取得する。距離算出手段54は、基準空間作成手段52により作成された基準空間に、データ取得手段53で得られたバッチデータを入力することでマハラノビス距離を算出する。貢献度算出手段55は、バッチプロセスのバッチデータの貢献度を算出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
バッチプロセスから取得されたデータに基づいて当該バッチプロセスの状況を解析するバッチプロセス解析システムにおいて、
バッチプロセスから得られたデータを蓄積するデータ蓄積手段と、
前記データ蓄積手段に蓄積された前記データに基づいて基準空間を作成する基準空間作成手段と、
解析対象となるバッチプロセスからデータを取得するデータ取得手段と、
前記基準空間作成手段により作成された前記基準空間に、前記データ取得手段で得られた前記データを入力することでマハラノビス距離を算出する距離算出手段と、
を備えることを特徴とするバッチプロセス解析システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5H223AA01
, 5H223DD09
, 5H223FF08
出願人引用 (1件)
-
近赤外分光分析計
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-096740
出願人：横河電機株式会社
審査官引用 (1件)
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