特許
J-GLOBAL ID：200903077572372411
SiO2系セラミックス膜の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-320114
公開番号（公開出願番号）：特開平10-212114
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】 ポリシラザン由来のセラミックス膜の特性を改良すること。【解決手段】 ポリシラザンを含む組成物の塗膜を基材表面に形成し、セラミックス化してSiO2 系セラミックス膜を形成する方法において、前記塗膜に赤外線を照射する工程を含むことを特徴とする方法。
請求項（抜粋）：
ポリシラザンを含む組成物の塗膜を基材表面に形成し、セラミックス化してSiO2 系セラミックス膜を形成する方法において、前記塗膜に赤外線を照射する工程を含むことを特徴とする方法。
IPC (7件)：
C01B 33/12
, B01J 19/12
, B05D 3/02
, B05D 7/24 302
, B32B 27/06
, B32B 33/00
, C08J 7/04
C01B 33/12 C
, B01J 19/12 G
, B05D 3/02 E
, B05D 7/24 302 Y
, B32B 27/06
, B32B 33/00
, C08J 7/04 P
