シリカ保護膜の作成方法および磁気記録媒体の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳田征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-130796
公開番号（公開出願番号）：特開平8-325700
出願日： 1995年05月29日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【目的】酸化することによってシリカに転化するポリシラザンを用い、塗膜法によってシリカ保護膜を形成するについて、低温条件で成膜可能とする。【構成】基板上にポリシラザンの塗膜を形成した後、この塗膜に紫外線照射等の光照射を行って酸化、重合を行い、シリカ保護膜を形成する。

請求項（抜粋）：

基板上にポリシラザンの塗膜を形成した後、この塗膜に光照射を行って酸化、重合を行い、シリカ保護膜を形成することを特徴とするシリカ保護膜の作成方法。

IPC (3件)：

C23C 8/10 , G11B 5/84 , G11B 5/72

FI (3件)：

C23C 8/10 , G11B 5/84 B , G11B 5/72

引用特許：

審査官引用 (5件)

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