特許
J-GLOBAL ID：200903077589793275

真空処理装置および真空処理方法

発明者：
広津 信

広津 信 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252894
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068711
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：
【要約】【課題】 真空処理室を排気する際のガスの流れや圧力を均一にすることができ、被処理基板に面内均一性の高い真空処理を施すことができる真空処理装置を提供すること。【解決手段】 真空処理装置は、真空処理室1と、載置台2と、前記真空処理室1の下部に、その中央から偏った位置に設けられた排気口4と、前記排気口4に接続され、前記真空処理室1の前記載置台2上方部分に形成される処理空間20を前記載置台2と前記真空処理室1の側壁とで規定される排気路21を通って前記排気口4から排気する排気機構6と、前記真空処理室1の周辺部に設けられた複数の圧力計8,9と、前記排気機構6によって前記処理空間20を排気する際に、前記複数の圧力計8,9の測定値が略均等になるように前記排気路21の開口分布を調整する開口調整部材3とを具備する。
請求項（抜粋）：
真空中で被処理基板に所定の処理を施す真空処理室と、前記真空処理室内に設けられ、被処理基板が載置される載置台と、前記真空処理室の下部に、その中央から偏った位置に設けられた排気口と、前記排気口に接続され、前記真空処理室の前記載置台上方部分に形成される処理空間を前記載置台と前記真空処理室の側壁とで規定される排気路を通って前記排気口から排気する排気機構と、前記真空処理室の周辺部に設けられた複数の圧力計と、前記排気機構によって前記処理空間を排気する際に、前記複数の圧力計の測定値が略均等になるように前記排気路の開口分布を調整する開口調整部材とを具備することを特徴とする真空処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/44
FI (3件)：
C23C 14/34 M ,  C23C 16/44 E ,  H01L 21/302 B
Fターム (19件)：
4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029DA02 ,  4K029EA03 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA11 ,  4K030JA09 ,  4K030KA11 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BC02 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004CB01 ,  5F004DA01 ,  5F004DA24
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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