特許
J-GLOBAL ID:200903077611999532

低反射透明導電膜とその製造方法および表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-295514
公開番号(公開出願番号):特開平10-142401
出願日: 1996年11月07日
公開日(公表日): 1998年05月29日
要約:
【要約】【課題】 光透過性に優れ、反射が軽減され、しかも優れた帯電防止性と電磁波遮蔽性とを有する低反射透明導電膜と陰極線管を得る。【解決手段】 金属を含み膜厚hが5nm以上50nm未満の範囲内である透明導電膜1の上層に、この透明導電膜1の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜2が形成された低反射透明導電膜4を陰極線管のフェースパネル3上に形成する。
請求項(抜粋):
金属を含み膜厚が5nm以上50nm未満の範囲内である透明導電膜の上層および/または下層に、この透明導電膜の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜が1層以上形成されたことを特徴とする低反射透明導電膜。
IPC (9件):
G02B 1/10 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 15/08 ,  C09D 5/24 ,  C09D 7/12 ,  G09F 9/00 313 ,  H01J 9/20 ,  H01J 29/89
FI (9件):
G02B 1/10 Z ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 15/08 E ,  C09D 5/24 ,  C09D 7/12 Z ,  G09F 9/00 313 ,  H01J 9/20 A ,  H01J 29/89
引用特許:
審査官引用 (3件)

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