特許
J-GLOBAL ID：200903077641735084

イオンビーム照射装置

発明者：
濱本 成顕

濱本 成顕 について


出願人/特許権者：
日新電機株式会社

日新電機株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 恵二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-370167
公開番号（公開出願番号）：特開2003-173757
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：
【要約】【課題】 高周波放電型のプラズマ発生装置においてプラズマを点灯させたままで、当該プラズマ中の電子エネルギーを低下させることができ、ひいては基板の帯電電圧をより小さくすることができるようにする。【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、高周波放電によってプラズマ12を生成してそれを基板4の上流側近傍に供給して、イオンビーム2の照射に伴う基板表面の帯電を抑制するプラズマ発生装置20を備えている。そしてこのプラズマ発生装置20にプラズマ発生用の高周波電力を供給する高周波電源を、元になる高周波信号に振幅変調をかけた状態の高周波電力18を出力する高周波電源16aとした。
請求項（抜粋）：
イオンビームを基板に照射して処理を施すイオンビーム照射装置であって、高周波放電によってプラズマを生成して当該プラズマを前記基板の上流側近傍に供給して、イオンビーム照射に伴う基板表面の帯電を抑制するプラズマ発生装置と、このプラズマ発生装置にプラズマ発生用の高周波電力を供給する高周波電源とを備えるイオンビーム照射装置において、前記高周波電源を、元になる高周波信号に振幅変調をかけた状態の高周波電力を出力する高周波電源としたことを特徴とするイオンビーム照射装置。
IPC (6件)：
H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/077 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/265 603 ,  H05H 1/46
FI (6件)：
H01J 37/317 Z ,  C23C 14/48 C ,  H01J 37/077 ,  H01L 21/265 603 Z ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/265 N
Fターム (3件)：
4K029DE00 ,  5C034CC13 ,  5C034CC19
引用特許：
審査官引用 (3件)

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