特許
J-GLOBAL ID：200903077728631714
ノズル装置及びそれを用いた基板の研磨装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-089518
公開番号（公開出願番号）：特開平11-269668
出願日： 1998年03月18日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：
【要約】【課題】 従来の化学・機械的研磨法に替わり、あるいはこれと併用することで、基板面をより効率的に平坦化できるようなポリッシング装置を提供する。【解決手段】 基板Wの被加工面に対向して配置され、被加工面にノズル50より腐食性のガス58を吹き付けてガスポリッシュを行なうノズル装置において、複数のノズル50が所定の間隔で分散して配置されているノズル集合体38と、各ノズルからのガスの流れを個別に制御する制御機構24,64,66とを有する。
請求項（抜粋）：
基板の被加工面に対向して配置され、該被加工面にノズルより腐食性のガスを吹き付けてガスポリッシュを行なうノズル装置において、複数のノズルが所定の間隔で分散して配置されているノズル集合体と、各ノズルからの前記ガスの流れを個別に制御する制御機構とを有することを特徴とするノズル装置。
IPC (4件)：
C23F 1/08
, C23F 1/12
, H01L 21/3065
, H01L 21/304 621
C23F 1/08
, C23F 1/12
, H01L 21/304 621 Z
, H01L 21/302 L
