特許
J-GLOBAL ID:200903077785293159
クラスタ型真空処理システム
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-304195
公開番号(公開出願番号):特開2001-127133
出願日: 1999年10月26日
公開日(公表日): 2001年05月11日
要約:
【要約】【課題】 各真空処理室に基板を迅速に搬送することができ、搬送台車を円滑かつ迅速に待機状態から使用状態に移行させることができる高スループットのクラスタ型真空処理システムを提供する。【解決手段】 クラスタ型真空処理システムは、中央に位置する共通搬送室30と、この共通搬送室の周囲に配置され、共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に設けられ、基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空処理室70A〜70Eと、共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬入されるロード室10と、共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬出されるアンロード室20と、真空処理室、共通搬送室、ロード室、アンロード室の相互間で基板を搬送するための少なくとも3つの搬送台車6A〜6Fと、を具備する。
請求項(抜粋):
複数の処理室に基板を次々に搬送して処理するクラスタ型真空処理システムであって、中央に位置する共通搬送室と、この共通搬送室の周囲に配置され、共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に設けられ、基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空処理室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬入されるロード室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬出されるアンロード室と、前記真空処理室、前記共通搬送室、前記ロード室、前記アンロード室の相互間で基板を搬送するための少なくとも3つの搬送台車と、を具備することを特徴とするクラスタ型真空処理システム。
IPC (8件):
H01L 21/68
, B01J 3/02
, B65G 49/07
, C23C 14/56
, C23C 16/44
, C23F 4/00
, C30B 25/02
, H01L 21/3065
FI (8件):
H01L 21/68 A
, B01J 3/02 P
, B65G 49/07 Z
, C23C 14/56 G
, C23C 16/44 F
, C23F 4/00 A
, C30B 25/02 P
, H01L 21/302 B
Fターム (51件):
4G077AA03
, 4G077DA01
, 4G077DB01
, 4G077EF01
, 4G077EG13
, 4K029KA01
, 4K029KA09
, 4K030GA12
, 4K030HA01
, 4K057DB06
, 4K057DB20
, 4K057DD01
, 4K057DD02
, 4K057DE20
, 4K057DM02
, 4K057DM13
, 4K057DM18
, 4K057DM35
, 4K057DM36
, 4K057DM39
, 4K057DN01
, 5F004BA04
, 5F004BB16
, 5F004BB21
, 5F004BC05
, 5F004BC06
, 5F004BD04
, 5F004BD05
, 5F004CA05
, 5F004DA00
, 5F004DB13
, 5F031CA05
, 5F031FA02
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA14
, 5F031FA18
, 5F031FA22
, 5F031GA53
, 5F031GA58
, 5F031HA37
, 5F031HA38
, 5F031LA09
, 5F031MA04
, 5F031MA06
, 5F031MA09
, 5F031MA28
, 5F031MA29
, 5F031MA32
, 5F031NA09
, 5F031PA03
引用特許:
審査官引用 (4件)
-
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-037147
出願人:シャープ株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-250003
出願人:日新電機株式会社
-
輻射冷暖房システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-112504
出願人:トヨタ自動車株式会社
-
真空処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-242911
出願人:株式会社日立製作所
全件表示
前のページに戻る