特許
J-GLOBAL ID：200903077806663652
パターン形成材料と厚膜パターン形成方法およびプラズマディスプレイパネル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米田 潤三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-079458
公開番号（公開出願番号）：特開平9-245629
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 レジストマスクとしての機能をもちながら湿式方式の剥離工程が不要なパターン形成材料と、このパターン形成材料を使用して電極や抵抗体等の高精度な厚膜パターンを形成することができる厚膜パターン形成方法、および、高精度の障壁を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】 600°C以下の焼成で揮発または分解する樹脂成分を、乾燥後の状態で5〜100重量%を占めるように含有させてパターン形成材料とし、このパターン形成材料を使用することにより、レジストマスクの焼成除去を可能とし、湿式方式による剥離工程を省略した厚膜パターン形成方法とする。
請求項（抜粋）：
少なくとも樹脂成分を含み、該樹脂成分はパターン形成材料が乾燥した状態で5〜100重量%を占めるように含有されるとともに、600°C以下の焼成で揮発または分解することを特徴とするパターン形成材料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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