特許
J-GLOBAL ID:200903077944717500

マルチビーム走査光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森下 武一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-028792
公開番号(公開出願番号):特開2000-227564
出願日: 1999年02月05日
公開日(公表日): 2000年08月15日
要約:
【要約】【課題】 マルチビーム走査光学装置において、ズームコリメータレンズを用いて被走査面上でのビーム間隔を補正し、該補正に伴う被走査面上でのビーム径あるいは光量の変動を解消すること。【解決手段】 レーザダイオード10の二つの点光源から放射されたレーザビームを、ズームコリメータレンズ11で集光すると共に開口型絞り12を透過させ、ポリゴンミラー14の回転に基づいて同時に感光体ドラム(被走査面)25上を走査する光学装置。ビームの間隔は検出器20で検出され、その検出値に基づいてズームコリメータレンズ11の焦点距離を変更し、ビーム間隔を補正する。ビーム径は絞り12によって一定に規制され、かつ、レーザダイオード10の発光光量も補正される。
請求項(抜粋):
複数の光源から放射されたレーザビームを副走査方向に所定の間隔で同時に被走査面上を等速走査するマルチビーム走査光学装置において、前記光源から放射されたレーザビームを集光し、主走査方向又は副走査方向の少なくともいずれか一方の焦点距離を変化させるズーム光学素子と、前記ズーム光学素子のビーム進行方向下流側に配置されてレーザビームの一部を遮光する絞り手段と、を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学装置。
FI (2件):
G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 E
Fターム (7件):
2H045AA01 ,  2H045BA22 ,  2H045BA32 ,  2H045CA03 ,  2H045CA88 ,  2H045CB22 ,  2H045DA02
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 画像形成装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-238370   出願人:株式会社リコー
  • 特開平4-101112
  • 特開平2-269305
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