特許

J-GLOBAL ID：200903078014802791

反射防止膜形成組成物

発明者： 河口 和雄 ,  齋藤 明夫 ,  大田 芳久 ,  下川 努
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-220429
公開番号（公開出願番号）：特開2001-040293
出願日： 1999年08月03日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【課題】 反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることのない、解像度および精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】 下記式(1):【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2、R3は独立に一価の原子もしくは基である。]で示される二価の基を有する重合体および溶剤を含有してなる反射防止膜形成組成物。

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示される二価の基を有する重合体および溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2、R3は独立に一価の原子もしくは基である。]

IPC (7件)：

C09D201/00 ,  C08F299/02 ,  C08G 10/02 ,  C08L 61/18 ,  C09D161/18 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C09D201/00 ,  C08F299/02 ,  C08G 10/02 ,  C08L 61/18 ,  C09D161/18 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

Fターム (62件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC62 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB06 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002CD002 ,  4J002CE001 ,  4J002EA056 ,  4J002ED016 ,  4J002EE026 ,  4J002EH006 ,  4J002EL066 ,  4J002EP016 ,  4J002ER007 ,  4J002EU026 ,  4J002EU187 ,  4J002FD142 ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J002HA02 ,  4J027AH03 ,  4J027AJ01 ,  4J027BA01 ,  4J027CA03 ,  4J027CA04 ,  4J027CA06 ,  4J027CA07 ,  4J027CA10 ,  4J027CA25 ,  4J027CA29 ,  4J027CB10 ,  4J027CC04 ,  4J027CC05 ,  4J027CC06 ,  4J027CC07 ,  4J027CC08 ,  4J027CD08 ,  4J027CD10 ,  4J033DA01 ,  4J033DA02 ,  4J033DA12 ,  4J038DA101 ,  4J038DG262 ,  4J038GA01 ,  4J038KA03 ,  4J038NA19 ,  5F046PA01 ,  5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 反射防止コーティング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-000065   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 反射防止膜形成組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-325670   出願人：ジェイエスアール株式会社