特許

J-GLOBAL ID：200903078147928461

無機多孔メンブレンおよびその作成方法

発明者： チャールズ・ティー・ブラック ,  キャスリン・ダブリュ・ガリーニ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
代理人 (3件)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-413990
公開番号（公開出願番号）：特開2004-209632
出願日： 2003年12月11日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：

【課題】自己集合材料を、メンブレンの孔のサイズと孔の密度を定めるための犠牲膜として利用する微小多孔メンブレン構造を提供する。【解決手段】本発明は、シリコン基板604の上に無機メンブレン材料600を作成し、この無機メンブレン材料600の上に多孔自己集合材料606を作成し、多孔自己集合材料606をマスクとして使用して無機メンブレン材料600をパターン形成する無機多孔メンブレンを作成する方法を提供する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

無機メンブレン材料を作成する工程と、 前記無機メンブレン材料の上に、多孔自己集合材料を作成する工程と、 前記多孔自己集合材料をマスクとして使用して前記無機メンブレン材料をパターン形成する工程と、 を含む無機多孔メンブレンの作成方法。

IPC (3件)：

B81C1/00 ,  B01D69/00 ,  B01D71/02

FI (3件)：

B81C1/00 ,  B01D69/00 ,  B01D71/02

Fターム (5件)：

4D006MC03 ,  4D006NA33 ,  4D006NA54 ,  4D006PB55 ,  4D006PC41

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高密度磁気記録媒体作製法およびこれによる高密度磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-131912   出願人：株式会社日立製作所
• スイッチング素子の製造方法、スイッチング素子及びスイッチング素子アレイ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-374990   出願人：株式会社東芝
• ナノ構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-140182   出願人：キヤノン株式会社
• 多孔質メンブレンおよびその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-032307   出願人：日本電信電話株式会社