特許

J-GLOBAL ID：200903078199929792

粒子線照射装置及び荷電粒子ビームの照射方法

発明者： 藤巻 寿隆 ,  松田 浩二 ,  柳澤 正樹 ,  秋山 浩
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-109062
公開番号（公開出願番号）：特開2004-313314
出願日： 2003年04月14日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】どのような大きさの照射野でも飛程を長くでき線量を一様にできる粒子線照射装置及び照射野形成装置の調整方法を提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム発生装置2と、荷電粒子ビーム発生装置2から出射された荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射野形成装置100とを備え、照射野形成装置100は、荷電粒子ビームを正規分布状に拡げる第1散乱体28を備える第1散乱体装置18と、第1散乱体28により正規分布状に拡がった荷電粒子ビームの強度分布を一様にする第2散乱体32,36をそれぞれ備え、互いにサイズの異なる照射野をそれぞれ形成するために、荷電粒子ビーム進行方向に沿って第1散乱体装置18より下流側に上記照射野サイズの違いに応じた距離間隔をもって複数段設けられた第2散乱体装置19A,19Bとを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム発生装置と、荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射装置とを備え、 前記荷電粒子ビーム照射装置は、 前記荷電粒子ビームが通過する第1散乱体を備える第1散乱体装置と、 前記第1散乱体を通過した前記荷電粒子ビームが通過する複数の第2散乱体を備え、前記荷電粒子ビームの進行方向における異なる複数の位置のいずれかで前記荷電粒子ビームが通過する領域に、前記第2散乱体を位置させる第2散乱体装置とを有することを特徴とする粒子線照射装置。

IPC (3件)：

A61N5/10 ,  G21K3/00 ,  G21K5/04

FI (5件)：

A61N5/10 J ,  A61N5/10 H ,  G21K3/00 E ,  G21K3/00 S ,  G21K5/04 A

Fターム (5件)：

4C082AC04 ,  4C082AC05 ,  4C082AE02 ,  4C082AG23 ,  4C082AG31

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 平坦化フィルタ駆動機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-358638   出願人：三菱電機株式会社
• 放射線治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-220501   出願人：株式会社日立メディコ
• 粒子線照射方法及び粒子線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-026564   出願人：株式会社東芝
• 荷電粒子線のビーム軸調整装置及び照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-207327   出願人：住友重機械工業株式会社