特許
J-GLOBAL ID：200903078246608657
ビーム源及び微細加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-054056
公開番号（公開出願番号）：特開平9-223594
出願日： 1996年02月16日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：
【要約】【課題】 高真空中で利用が可能で、低エネルギーの高速原子線源とプラズマジェットを多量に取出すことができるビーム源及びそのビーム源を用いた微細加工方法を提供する。【解決手段】 放電容器21と、プラズマ発生機構24,25と、ガス導入機構22と、プラズマ発生機構により発生されたプラズマ27を、ジェットビームとして放出するプラズマジェットノズル23とを備えた。
請求項（抜粋）：
放電容器と、プラズマ発生機構と、ガス導入機構と、前記プラズマ発生機構により発生されたプラズマを、ジェットビームとして放出するプラズマジェットノズルとを備えたことを特徴とするビーム源。
IPC (3件)：
H05H 1/26
, G21K 5/04
, H05H 3/02
H05H 1/26
, G21K 5/04 Z
, H05H 3/02
