特許
J-GLOBAL ID:200903078309882525
欠陥検出光学系および欠陥検出画像処理を搭載した表面欠陥検査装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-316524
公開番号(公開出願番号):特開2009-139248
出願日: 2007年12月07日
公開日(公表日): 2009年06月25日
要約:
【課題】レンズ効果により凹凸欠陥の判定をする従来技術では、欠陥の正確な大きさ、高さに関しての精度向上が図れない。【解決手段】ステージ上に搭載されたディスクの面板表面に光ビームを照射して面板表面を走査する照射光学系と、前記ディスクに照射された光ビームによる面板からの正反射光の光量を変化させる濃淡差を有する濃淡フィルタを備え、前記濃淡フィルタを透過した正反射光を受光する受光光学系と、前記フィルタを通過して得られた正反射光の光量変化より面板表面上の欠陥を識別する処理手段とを有する検査装置を提供する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ディスクの表面に光ビームを照射する照射光学系と、
前記ディスクに照射された光ビームによる前記ディスクからの正反射光を、濃淡差を有する第一のフィルタに通過させて受光する第一の受光光学系と、
前記第一の受光光学系により得られた光量に基づき前記ディスク上の欠陥を検出する信号処理手段と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N21/95 A
, G01N21/88 J
Fターム (14件):
2G051AA71
, 2G051AB02
, 2G051BA10
, 2G051CA01
, 2G051CA07
, 2G051CB01
, 2G051CC07
, 2G051CC11
, 2G051DA08
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EC01
, 2G051EC05
, 2G051ED21
引用特許: