特許
J-GLOBAL ID：200903078313120036

プラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法

発明者：
村田正義

村田正義 について


出願人/特許権者：
村田 正義

村田 正義 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-191752
公開番号（公開出願番号）：特開2005-026540
出願日： 2003年07月04日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：
【課題】1mx1m級大面積基板に対しても、真空容器内の一対の電極間にVHF帯(30〜300MHz)のプラズマが再現性良く、均一に生成され、基板に対する均一なプラズマ表面処理が可能となる表面処理装置および表面処理方法を提供すること。【解決手段】プラズマを利用して真空容器1内の一対の電極2,4の一方に配置される基板13の表面を処理する表面処理装置および方法において、前記一対の電極2,4と同軸ケーブル16cの間に平衡不平衡変換装置19を挿入し、かつ、整合器17と前記一対の電極2,4の間に定在波検知装置61を挿入し、かつ、前記一対の電極2,4に並列にリアクタンス調整装置71を付加した構成にしたことを特徴とする。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
排気系を備えた真空容器と、この真空容器内に放電用ガスを供給する放電用ガス供給系と、基板がセットされる第1の電極と前記第1の電極に対向設置される第2の電極からなる一対の電極と、前記一対の電極間に高周波電力を供給する電力供給系とを具備し、生成したプラズマを利用して基板の表面を処理するプラズマ表面処理装置において、前記電力供給系の構成部材の同軸ケーブルと前記一対の電極との接続部に、互いに構造の異なる線路間の伝送特性を整合する平衡不平衡変換装置が挿入されることを特徴とするプラズマ表面処理装置。
IPC (4件)：
H01L21/205 ,  B01J3/00 ,  B01J19/08 ,  H05H1/46
FI (5件)：
H01L21/205 ,  B01J3/00 J ,  B01J19/08 H ,  H05H1/46 M ,  H05H1/46 R
Fターム (33件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA16 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075EC21 ,  4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K030LA16 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AD06 ,  5F045BB02 ,  5F045CA13 ,  5F045CA16 ,  5F045EH01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH14 ,  5F045GB04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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