特許
J-GLOBAL ID:200903078548472797
希土類系永久磁石およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-337841
公開番号(公開出願番号):特開2001-076914
出願日: 1999年11月29日
公開日(公表日): 2001年03月23日
要約:
【要約】【課題】 優れた耐食性を示す薄くて緻密な金属酸化物皮膜を、優れた密着性のもとに磁石表面に有する希土類系永久磁石および該磁石の低コストで環境への影響の少ない簡易な製造方法を提供すること。【解決手段】 ゾルゲル成膜法により金属酸化物皮膜が磁石表面に形成されていることを特徴とする。
請求項(抜粋):
ゾルゲル成膜法により金属酸化物皮膜が磁石表面に形成されていることを特徴とする希土類系永久磁石。
IPC (3件):
H01F 1/053
, C22C 38/00 303
, H01F 41/02
FI (3件):
H01F 1/04 H
, C22C 38/00 303 D
, H01F 41/02 G
Fターム (11件):
5E040AA03
, 5E040AA04
, 5E040AA19
, 5E040BC01
, 5E040BD03
, 5E040CA01
, 5E040HB14
, 5E040NN05
, 5E040NN06
, 5E062CD04
, 5E062CG07
引用特許:
審査官引用 (12件)
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永久磁石およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-019653
出願人:矢崎総業株式会社
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ゾルゲル法による薄膜の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-148610
出願人:住友電気工業株式会社
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特開昭63-110606
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ボンド磁石成型体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-112577
出願人:旭化成工業株式会社
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特開平4-029302
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特開平4-029302
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特開平4-029302
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特開昭63-110606
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特開平4-029302
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特開昭63-110606
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多孔体細孔の連続微細化方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-077950
出願人:三菱重工業株式会社
-
撥水性ガラスおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-129283
出願人:セントラル硝子株式会社, 日産自動車株式会社
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