光学系及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法、複数の露光装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-053239
公開番号（公開出願番号）：特開2005-244013
出願日： 2004年02月27日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：

【課題】結像性能の劣化となる光学部材の熱膨張による変形を低減することにより所望の光学性能をもたらす光学系、露光装置を提供する。【解決手段】第1光学素子と第2光学素子とを含む光学系であって、前記第1光学素子の線膨張係数がゼロになる温度を第1ゼロ交差温度、前記第2光学素子の線膨張係数がゼロになる温度を第2ゼロ交差温度とするとき、前記第1ゼロ交差温度と前記第2ゼロ交差温度とが互いに異なる温度であり、前記第1ゼロ交差温度と前記第2ゼロ交差温度との差が3度以内であることを特徴としている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

第1光学素子と第2光学素子とを含む光学系であって、前記第1光学素子の線膨張係数がゼロになる温度を第1ゼロ交差温度、前記第2光学素子の線膨張係数がゼロになる温度を第2ゼロ交差温度とするとき、前記第1ゼロ交差温度と前記第2ゼロ交差温度とが互いに異なる温度であり、前記第1ゼロ交差温度と前記第2ゼロ交差温度との差が3度以内であることを特徴とする光学系。

IPC (5件)：

H01L21/027 , G02B7/02 , G02B13/14 , G02B17/00 , G02B19/00

FI (7件)：

H01L21/30 531A , G02B7/02 F , G02B13/14 , G02B17/00 Z , G02B19/00 , H01L21/30 515D , H01L21/30 517

Fターム (15件)：

2H044AH01 , 2H044AH14 , 2H052BA03 , 2H052BA09 , 2H052BA12 , 2H087KA21 , 2H087LA24 , 2H087NA04 , 2H087NA08 , 2H087TA02 , 5F046BA05 , 5F046CB03 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB01

引用特許：

出願人引用 (4件)

リトグラフ投影装置、装置の製造方法および光学要素を製造する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-382893 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
CTE-T曲線の可変調整可能なゼロ交叉を有するガラスセラミック製品
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-372566 出願人：カール-ツァイス-スティフツング
光学素子冷却装置、光学素子冷却方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-184512 出願人：株式会社ニコン

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