特許
J-GLOBAL ID：200903078737943890

荷電粒子ビーム照射装置及び方法

発明者：
溝田 学

溝田 学 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-128839
公開番号（公開出願番号）：特開2003-320039
出願日： 2002年04月30日
公開日（公表日）： 2003年11月11日
要約：
【要約】【課題】 従来のレンジシフターは、ビームの患部以外への不必要な照射を生み出すという課題があった。【解決手段】 運転パターンに基づいてエネルギーを変更して荷電粒子ビームを出射する加速器1と、厚みを変えることにより、前記加速器からの荷電粒子ビームのエネルギーを変更して通過させるレンジシフター5とを備え、前記レンジシフターの厚みの変更、及び前記レンジシフターに入射される荷電粒子ビームのエネルギーの変更を組み合わせ、照射対象領域の形状に合わせて荷電粒子ビームを照射する。【効果】 少ない可変領域のレンジシフターを用いても、全体として連続的に大きなエネルギー変化をもたらし、深さ方向に大きな患部に対しても有効なビーム照射ができる。
請求項（抜粋）：
所定の運転パターンに基づいてエネルギーを変更して荷電粒子ビームを出射する加速器と、厚みを変えることにより、前記加速器からの荷電粒子ビームのエネルギーを変更して通過させるレンジシフターとを備え、前記レンジシフターの厚みの変更、及び前記レンジシフターに入射される荷電粒子ビームのエネルギーの変更を組み合わせ、照射対象領域の形状に合わせて荷電粒子ビームを照射することを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。
IPC (4件)：
A61N 5/10 ,  G21K 3/00 ,  G21K 5/04 ,  H05H 7/12
FI (6件)：
A61N 5/10 H ,  A61N 5/10 N ,  G21K 3/00 S ,  G21K 3/00 Y ,  G21K 5/04 A ,  H05H 7/12
Fターム (12件)：
2G085BA20 ,  2G085CA21 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AC06 ,  4C082AE01 ,  4C082AG03 ,  4C082AG42 ,  4C082AG43 ,  4C082AN02 ,  4C082AN04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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