特許
J-GLOBAL ID:200903078774324750
透明導電性薄膜製造用酸化物焼結体ターゲット、透明導電性薄膜、透明導電性基板、表示デバイスおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鴨田 哲彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-080686
公開番号(公開出願番号):特開2005-268113
出願日: 2004年03月19日
公開日(公表日): 2005年09月29日
要約:
【課題】 表面平滑性に優れ、比抵抗が低く、かつ、200°C未満の加熱によっても非晶質性と表面平滑性および比抵抗の性質が変化せず、内部応力が低い透明導電性薄膜を提供する。【解決手段】 酸化インジウムを主成分として、タングステン元素がW/In原子数比で0.004〜0.023の割合で含有され、亜鉛元素がZn/In原子数比で0.004〜0.100の割合で含有され、非晶質構造である。比抵抗が9.0×10-4Ωcm以下、好ましくは6.0×10-4Ωcm以下であるとよい。また、結晶化温度が200°C以上、膜表面の算術平均高さ(Ra)が2.0nm以下、内部応力の絶対値が1×1010dyn/cm2 以下であることが好ましい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
酸化インジウムを主成分として、タングステン元素がW/In原子数比で0.004〜0.023の割合で含有され、亜鉛元素がZn/In原子数比で0.004〜0.100の割合で含有され、かつ、非晶質構造であることを特徴とする透明導電性薄膜。
IPC (5件):
H01B1/08
, C23C14/34
, H01B5/14
, H05B33/14
, H05B33/28
FI (5件):
H01B1/08
, C23C14/34 A
, H01B5/14 A
, H05B33/14 A
, H05B33/28
Fターム (25件):
3K007AB02
, 3K007AB05
, 3K007AB08
, 3K007AB11
, 3K007AB14
, 3K007CB01
, 3K007DB03
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA45
, 4K029BC09
, 4K029CA06
, 4K029DC04
, 4K029DC09
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 5G301CA02
, 5G301CA15
, 5G301CA27
, 5G301CA30
, 5G301CD03
, 5G307FA00
, 5G307FA01
, 5G307FB01
, 5G307FC10
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (1件)
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