特許
J-GLOBAL ID：200903078816591290
カラーフィルタ用ブラックマトリックスの形成方法、形成基板及びフォトレジスト
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-245313
公開番号（公開出願番号）：特開平9-101407
出願日： 1995年08月29日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：
【要約】【課題】 微細加工が可能で、遮光性の高いブラックマトリックスの形成方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板に対し、ポリビニルピロリドンと水溶性ビスアジド化合物からなる水溶性フォトレジストを塗布し、紫外線照射、現像、グラファイト塗布、エッチング、現像のプロセスにより、高遮光性で微細なカラーフィルタ用ブラックマトリックスが得られる。
請求項（抜粋）：
?@ガラス基板上のフォトレジスト塗布膜に、所望のパターンを有するフォトマスクを通して紫外線を照射し、現像するレジストパターン形成工程、?Aレジストパターンが形成されたガラス基板上全面に、黒色成分含有塗布液を塗布する工程、を経て得られる黒色成分塗布物を、?Bエッチング工程、?C現像工程、により処理するカラーフィルタ用ブラックマトリックスの形成方法。
IPC (4件)：
G02B 5/20 101
, C09D139/06 PGL
, G02F 1/1335 505
, G03F 7/008
G02B 5/20 101
, C09D139/06 PGL
, G02F 1/1335 505
, G03F 7/008
