特許
J-GLOBAL ID：200903078864624639

露光用マスクとその製造方法

発明者：
石渡 直行

石渡 直行 について

, 
細野 浩司

細野 浩司 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-266816
公開番号（公開出願番号）：特開2006-084534
出願日： 2004年09月14日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：
【課題】 シフター部と非シフター部の位相差を精度良く測定することができる露光用マスクとその製造方法を提供すること。【解決手段】 デバイス領域Iにおける石英基板(透明基板)10上に第1の間隔W1をおいて形成され、第1凹部10aに張り出す二つの第1デバイス用遮光パターン10cと、第1デバイス用遮光パターン10cから第2の間隔W2で隔てられた第2デバイス用遮光パターン10dと、モニター領域IIにおける石英基板10上に第1の間隔W1よりも広い第3の間隔W3をおいて形成され、第2凹部10bに張り出す二つの第1モニター用遮光パターン11eと、第1モニター用遮光パターン11eから第2の間隔W2よりも広い第4の間隔W4で隔てられた第2モニター用遮光パターン11eとを有し、第1モニター用遮光パターン11eの寸法L2が、第1デバイス用遮光パターン11cの寸法L1以下である露光用マスクによる。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
デバイス領域に第1凹部を有し、モニター領域に第2凹部を有する透明基板と、 前記デバイス領域における前記透明基板上に第1の間隔をおいて形成され、前記第1凹部の両側からそれぞれ該第1凹部に張り出す二つの第1デバイス用遮光パターンと、 前記デバイス領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔で隔てられた第2デバイス用遮光パターンと、 前記モニター領域における前記透明基板上に前記第1の間隔よりも広い第3の間隔をおいて形成され、前記第2凹部の両側からそれぞれ該第2凹部に張り出す二つの第1モニター用遮光パターンと、 前記モニター領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔で隔てられた第2モニター用遮光パターンと、 を有し、 前記第1モニター用遮光パターンの寸法が、前記第1デバイス用遮光パターンの寸法以下であることを特徴とする露光用マスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F1/08 S ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 502P
Fターム (5件)：
2H095BB03 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  2H095BD03 ,  2H097LA10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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