マイクロリソグラフィ-投影装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-349172
公開番号（公開出願番号）：特開2000-182953
出願日： 1999年12月08日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】投影対物レンズの非回転対称の画像形成エラーを回避し、ウェハ上のチップを単一の走査により露光する。【解決手段】マイクロリソグラフィー投影装置の照明装置は、光源と対物レンズとに加えて、具体的な画像領域形状を形成する装置で構成される。この画像領域形状は、好適には、次の条件を満たす。すなわち、走査移動方向(y 方向)には少なくとも部分的に未使用領域によって互いに分離され、下流の投影対物レンズの円形画像領域(5 )の外周部に概ね回転対称となるような領域(1 〜 4)で構成されること。更に、領域(1 〜 4)を走査方向に通過する光量の積分は、画像領域形状の走査方向に直角な方向の全体にわたって一定となること。同等の露光効果を発揮する画像領域形状(1 〜 4)は、従来の矩形のスキャナスロットに取って代わるものである。

請求項（抜粋）：

光源と、レチクル平面に画像領域形状を形成する装置とを有する照明装置と、レチクル平面にレチクルを収容するための走査方向(y 方向)に移動可能なレチクル保持部と、レチクル平面に位置するレチクルのパターンをウェハ平面へ投射する投影対物レンズとを有するマイクロリソグラフィー投影装置であって、画像領域形状を形成する装置(16、670 )は、円形の修正画像領域(5 、105、305 、405 、505 )の中央領域に陰影をつけた画像領域形状が形成されるように構成されることを特徴とするマイクロリソグラフィー投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/23

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/23 H , H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (5件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-174097 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置及びデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-090302 出願人：キヤノン株式会社
特開平2-229423

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