特許
J-GLOBAL ID：200903078909146180

アーク堆積法及び装置

発明者：
イアコヴァンゲロ,チャールズ・ドミニク

イアコヴァンゲロ,チャールズ・ドミニク について

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ボルスト,ケイス・ミルトン

ボルスト,ケイス・ミルトン について

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ジェラベク,エリュー・カルヴィン

ジェラベク,エリュー・カルヴィン について

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マルザノ,パトリック・ピーター

マルザノ,パトリック・ピーター について

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ヤング,バリー・リー-ミーン

ヤング,バリー・リー-ミーン について


出願人/特許権者：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ について


代理人 (1件)： 松本 研一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-605803
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518553
出願日： 2000年02月04日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：
【要約】基板上に皮膜を堆積する方法及び装置が提供される。基板を被覆する方法は、第一反応物質を蒸発させる段階1、蒸発した反応物質をプラズマ中に導入する段階2、第一反応物質を基板の表面上に堆積する段階3を含む。この方法は、導電性紫外線フィルタ皮膜をガラス又はポリカーボネート基板(20)上に高速で堆積するのに使用する。ポリマー基板上にUVフィルタ皮膜を堆積する装置(4)は、プラズマ(50)を形成する陽極(19)及び陰極(13)を有するプラズマ発生器(10)と、プラズマ(50)により基板(20)上に堆積される蒸発物質を含む第一反応物質をプラズマ中に導入する第一注入部(34)とを備える。所望に応じて、注入ノズル(18)を用いて第一反応物質をプラズマ(50)中に制御された態様で送り込むことができる。
請求項（抜粋）：
基板に向かって流れるプラズマを発生させる段階、 金属反応物質を蒸発させる段階、及び 蒸発した金属反応物質をプラズマ流中に導入して金属反応物質を基板上に投射する段階を含んでなる基板の被覆方法。
IPC (3件)：
C23C 14/32 ,  B60J 1/00 ,  C23C 14/08
FI (3件)：
C23C 14/32 B ,  B60J 1/00 G ,  C23C 14/08 K
Fターム (10件)：
4K029AA09 ,  4K029BA49 ,  4K029BA50 ,  4K029BD00 ,  4K029CA04 ,  4K029DB03 ,  4K029DB04 ,  4K029DC03 ,  4K029DD06 ,  4K029FA07
引用特許：
審査官引用 (4件)
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