高速アークプラズマ成膜による保護皮膜

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：生沼徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-179480
公開番号（公開出願番号）：特開平11-071681
出願日： 1998年06月26日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】ガラス、金属及びプラスチック基体上での付着性金属酸化物皮膜の高速成膜法の提供。【解決手段】プラズマ成膜法により基体表面に付着性皮膜を堆積するに当たり、直流アークプラズマ発生器により酸素含有プラズマガスを形成し、プラズマ発生器外部のプラズマ中に反応体ガスを注入し、プラズマによって酸素及び反応体ガスから形成された反応性化学種が基体の表面と付着性皮膜を生じるのに十分な時間にわたって接触するように、真空チャンバー内部に配置された基体に向かってプラズマ発生器から真空チャンバー内へと延びた末広ノズルインジェクターによりプラズマを真空チャンバー中に方向付ける。

請求項（抜粋）：

プラスチック基体上へのケイ素酸化物系耐摩耗性皮膜のプラズマ成膜により耐摩耗性物品を製造する方法であって、アークプラズマ発生器にプラズマガスを通し、プラズマ発生器からプラズマが出てくるときのプラズマ中に酸素及び反応性ガスを注入し、プラズマ内部で形成された活性種が基体の表面と接触するように真空チャンバー内のプラズマ柱の軸上に配置された基体に向けて酸素及び反応性ガスを含むプラズマを方向付けることを含んでなる方法。

IPC (5件)：

C23C 16/50 , C23C 16/40 , C23C 16/42 , H01L 21/205 , H01L 21/31

FI (5件)：

C23C 16/50 , C23C 16/40 , C23C 16/42 , H01L 21/205 , H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (10件)

特表平5-500069
特開昭64-090053
特表平4-501875

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