特許
J-GLOBAL ID：200903078952538734
複屈折パターン作製材料
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-132958
公開番号（公開出願番号）：特開2009-282204
出願日： 2008年05月21日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：
【課題】複屈折パターンの簡便な作製に有用な材料の提供。【解決手段】未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層であって、少なくとも下記の[1]及び[2]の工程をこの順に含む方法で作製される光学異方性層を含む複屈折パターン作製材料:[1]少なくとも二種の反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程;[2]熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層であって、少なくとも下記の[1]及び[2]の工程をこの順に含む方法で作製される光学異方性層を含む複屈折パターン作製材料:
[1]少なくとも二種の反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥させる工程;
[2]熱処理または電離放射線照射によって前記反応性基のうちの一種を反応させる工程。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (21件)：
2H149AA28
, 2H149AB26
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB03
, 2H149DB04
, 2H149DB15
, 2H149DB16
, 2H149FA03Z
, 2H149FA15Z
, 2H149FA24Y
, 2H149FA33Y
, 2H149FA58Y
, 2H149FA61
, 2H149FC07
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191GA08
, 2H191LA13
, 2H191LA40
, 2H191PA82
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
