特許
J-GLOBAL ID:200903086520631051

転写材料及びパターン状の光学異方性層と感光性樹脂層とを有する積層構造体の製造方法並びに液晶表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-230499
公開番号(公開出願番号):特開2007-199661
出願日: 2006年08月28日
公開日(公表日): 2007年08月09日
要約:
【課題】液晶セル内に光学異方性層を形成するのに有用な転写材料の提供、およびパターン状の光学異方性層を有する積層構造体の簡便な製造方法の提供。【解決手段】酸性基を有するモノマーおよび/または酸もしくは塩基により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料及び下記[1]及び[2]の工程を含むパターン状の光学異方性層を有する積層構造体の製造方法。[1]該転写材料を、フォトマスクを用いてパターン露光する工程。[2]アルカリ水溶液を用いて現像し、該転写材料の未露光部分を除去する工程。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
酸性基を有するモノマーおよび/または酸または塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料。
IPC (4件):
G02B 5/30 ,  G02B 5/20 ,  B32B 27/00 ,  G02F 1/133
FI (5件):
G02B5/30 ,  G02B5/20 101 ,  B32B27/00 L ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/13363
Fターム (42件):
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA47 ,  2H048BB01 ,  2H048BB02 ,  2H048BB08 ,  2H048BB42 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB66 ,  2H049BC02 ,  2H049BC08 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FC01 ,  2H091FC10 ,  2H091FC12 ,  2H091FC18 ,  2H091GA16 ,  2H091LA16 ,  2H091LA21 ,  2H091LA30 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK21 ,  4F100AK25 ,  4F100AK70A ,  4F100AK71A ,  4F100AL05A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100GB43 ,  4F100JA20A ,  4F100JL02 ,  4F100JN17B ,  4F100YY00A
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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