特許

J-GLOBAL ID：200903078995265154

改良されたCMP生成物

発明者： ガーグ,アジャイ ケー. ,  タニケラ,ブラーマナンダム ブイ. ,  デラニー,ウィリアム アール.
出願人/特許権者： サンーゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-531935
公開番号（公開出願番号）：特表2003-512501
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：

【要約】50nmより小さい平均粒径および少くとも50m2/gのBET表面積を有するシリカ被覆遷移アルミナを含有する研摩材料は、スラリーの形態で、もしくは固定砥粒として、いずれもCMP(化学的機械平坦化)法で有用である。

請求項（抜粋）：

シリカの被覆ならびに50nmより小さい平均粒径および50m2 /gより大きいBET表面積を有する、遷移アルミナ粒子を含む、CMP生成物に使用するための研摩材。

IPC (9件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  B24B 57/02 ,  B24D 3/00 320 ,  B24D 3/00 330 ,  B24D 3/28 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304

FI (10件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 J ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  B24B 57/02 ,  B24D 3/00 320 A ,  B24D 3/00 330 D ,  B24D 3/28 ,  H01L 21/304 622 B ,  H01L 21/304 622 D

Fターム (15件)：

3C047FF08 ,  3C047GG15 ,  3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17 ,  3C063AA02 ,  3C063BB03 ,  3C063BB07 ,  3C063BB15 ,  3C063BC03 ,  3C063CC01 ,  3C063EE26 ,  3C063FF23

引用特許：

審査官引用 (7件)

• ナノサイズのαアルミナ粒子とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-040754   出願人：ノートンカンパニー
• 特開昭60-231462
  
• 特開昭63-045118
  
• 改良研磨スラリー及びその使用方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-515279   出願人：ローデルインコーポレイテッド
• CMP生成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-528524   出願人：サンーゴバンセラミックスアンドプラスティクス,インコーポレイティド
• 特開昭60-231462
  
• 特開昭63-045118