特許
J-GLOBAL ID:200903079041563258
半導体レーザ装置及び光ディスク再生記録装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-308713
公開番号(公開出願番号):特開2003-115640
出願日: 2001年10月04日
公開日(公表日): 2003年04月18日
要約:
【要約】【課題】バリア層と量子井戸層の活性領域における歪を補償し、高出力でありかつ信頼性の高い、760〜800nmのAlフリーの半導体レーザ装置、及びそれを用いた光ディスク用再生記録装置を提供する。【解決手段】GaAs基板上に、下クラッド層、バリア層と量子井戸層を有する活性領域、及び上クラッド層を積層してなる半導体レーザ装置において、前記量子井戸層がInxGa1-xAs1-yPyからなり、xが0.69以上である。
請求項(抜粋):
GaAs基板上に、下クラッド層、バリア層と量子井戸層を有する活性領域、及び上クラッド層を積層してなる半導体レーザ装置であって、前記量子井戸層がInxGa1-xAs1-yPyからなり、xが0.69以上である半導体レーザ装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01S 5/343
, G11B 7/125 A
Fターム (16件):
5D119AA42
, 5D119BA01
, 5D119FA05
, 5D119FA17
, 5D789AA42
, 5D789BA01
, 5D789FA05
, 5D789FA17
, 5F073AA45
, 5F073AA74
, 5F073BA06
, 5F073CA12
, 5F073CB02
, 5F073DA22
, 5F073EA15
, 5F073EA28
引用特許:
審査官引用 (2件)
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面発光半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-320034
出願人:日本電信電話株式会社
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-319711
出願人:富士通株式会社
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