特許
J-GLOBAL ID:200903079041563258

半導体レーザ装置及び光ディスク再生記録装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-308713
公開番号(公開出願番号):特開2003-115640
出願日: 2001年10月04日
公開日(公表日): 2003年04月18日
要約:
【要約】【課題】バリア層と量子井戸層の活性領域における歪を補償し、高出力でありかつ信頼性の高い、760〜800nmのAlフリーの半導体レーザ装置、及びそれを用いた光ディスク用再生記録装置を提供する。【解決手段】GaAs基板上に、下クラッド層、バリア層と量子井戸層を有する活性領域、及び上クラッド層を積層してなる半導体レーザ装置において、前記量子井戸層がInxGa1-xAs1-yPyからなり、xが0.69以上である。
請求項(抜粋):
GaAs基板上に、下クラッド層、バリア層と量子井戸層を有する活性領域、及び上クラッド層を積層してなる半導体レーザ装置であって、前記量子井戸層がInxGa1-xAs1-yPyからなり、xが0.69以上である半導体レーザ装置。
IPC (2件):
H01S 5/343 ,  G11B 7/125
FI (2件):
H01S 5/343 ,  G11B 7/125 A
Fターム (16件):
5D119AA42 ,  5D119BA01 ,  5D119FA05 ,  5D119FA17 ,  5D789AA42 ,  5D789BA01 ,  5D789FA05 ,  5D789FA17 ,  5F073AA45 ,  5F073AA74 ,  5F073BA06 ,  5F073CA12 ,  5F073CB02 ,  5F073DA22 ,  5F073EA15 ,  5F073EA28
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 面発光半導体レーザ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-320034   出願人:日本電信電話株式会社
  • 半導体レーザ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-319711   出願人:富士通株式会社

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