特許
J-GLOBAL ID：200903045337399320

パターン形成材料及び画像形成材料

発明者：
加納 丈嘉

加納 丈嘉 について

, 
川村 浩一

川村 浩一 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-190874
公開番号（公開出願番号）：特開2003-222972
出願日： 2002年06月28日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：
【要約】【課題】 露光後、現像工程を行うことなくパターン形成が可能であり、かつ、極性変化により親水性と疎水性の差が大きく明確な2つの領域を形成することが可能であるパターン形成材料、及びそれを用いた高解像度の画像形成が可能な画像形成材料を提供することを目的とする。【解決手段】 支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を備え、該パターン形成層に、700nm以下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させることを特徴とするパターン形成材料、及びそれを用いた画像形成材料。
請求項（抜粋）：
支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を備え、該パターン形成層に、700nm以下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (3件)：
G03C 1/73 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/40 521
FI (3件)：
G03C 1/73 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/40 521
Fターム (21件)：
2H025AA17 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BH03 ,  2H025FA37 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096EA04 ,  2H096HA09 ,  2H123AE00 ,  2H123AE01 ,  2H123BA00 ,  2H123BA01 ,  2H123CA00 ,  2H123CA22 ,  2H123FA00
引用特許：
審査官引用 (14件)
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