特許
J-GLOBAL ID：200903079068598380

カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ形成用転写フィルム

発明者：
板野 考史

板野 考史 について

, 
増子 英明

増子 英明 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-289878
公開番号（公開出願番号）：特開2000-121822
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高感度で、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れを生じることがなく、かつ基板および遮光層への密着性に優れた画素を与えるカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ形成用転写フィルムを提供する。【解決手段】 支持フィルム上に形成された膜形成材料層21を基板11上に転写し、基板上に転写された膜形成材料層上にレジスト膜を形成し、レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、レジスト膜を現像処理してレジストパターン35を顕在化させ、膜形成材料層をエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターン25を形成し、パターンを熱硬化させてカラーフィルタを製造する。
請求項（抜粋）：
支持フィルム上に形成された膜形成材料層を基板上に転写し、基板上に転写された膜形成材料層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、膜形成材料層をエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、当該パターンを熱硬化させる工程を含む方法により形成することを特徴とする、カラーフィルタの製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/40 521
FI (3件)：
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/40 521
Fターム (24件)：
2H048BA45 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46 ,  2H091FA02Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FB13 ,  2H091FC01 ,  2H091FC10 ,  2H091FC22 ,  2H091FC26 ,  2H091LA02 ,  2H091LA07 ,  2H091LA12 ,  2H096AA28 ,  2H096BA06 ,  2H096BA10 ,  2H096CA12 ,  2H096EA02 ,  2H096GA09 ,  2H096HA15 ,  2H096HA18
引用特許：
審査官引用 (7件)
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