特許

J-GLOBAL ID：200903079150573395

アダマンタン誘導体およびそれを原料とする樹脂組成物

発明者： 古川 喜久夫 ,  角田 稔 ,  西村 喜男 ,  山田 敏明
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-009070
公開番号（公開出願番号）：特開2006-016379
出願日： 2005年01月17日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：

【課題】光学特性や耐熱性、酸解離性などに優れた、架橋型樹脂、光ファイバーや光道波路、光ディスク基板、フォトレジストなどの光学材料およびその原料、医薬・農薬中間体、その他各種工業製品などとして有用な化合物を提供する。【解決手段】 式(1)で表されるアダマンタン誘導体。【化1】【化2】(式中、Xは、同一または異なって、水素原子、アルキル基、ハロゲン含有アルキル基、ハロゲン基、又は、ヒドロキシル基、ハロゲン基、ニトリル基、若しくはエーテル基を有するヒドロカルビル基を示し、n1は、1〜14の整数を示す。R1〜R4は、同一または異なって、アルキル基またはハロゲン含有アルキル基を示す。Y1、Y2は、同一または異なって、水素原子または式(2)で表される基を示す。R5〜R7は、同一または異なって、水素原子、アルキル基、ハロゲン基またはハロゲン含有アルキル基を示す)。

請求項（抜粋）：

式(1)で表される化合物。

IPC (6件)：

C07C 69/653 ,  C07C 69/003 ,  C08F 20/36 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C07C69/653 ,  C07C69/003 C ,  C08F20/36 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (38件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26P ,  4J100AL66P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA40P ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA35 ,  4J100JA36 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (6件)

• 特公平1-53633号公報
  
• 光学用成形品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-101084   出願人：帝人化成株式会社
• 特開平4-39665号公報
  
• レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-130131   出願人：富士通株式会社
• フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-135624   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-369339   出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-227580   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特表昭57-500785
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Preparation and 13C NMR Spectroscopic Study of Disubstituted Adamantane-1,3-dimethyldiyl Dications