特許

J-GLOBAL ID：200903079155890828

(共)重合体、製造方法、レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者： 百瀬 陽 ,  大竹 敦 ,  上田 昭史 ,  藤原 匡之
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-283986
公開番号（公開出願番号）：特開2005-048128
出願日： 2003年07月31日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：

【課題】 レジスト等の構成成分樹脂として有用な重合体、その製造方法、および、DUVエキシマレーザーリソグラフィー等において用いた場合に、高感度、高解像度であり、マイクロゲルの生成が少なく、ラインエッジラフネスが小さい、優れたレジスト組成物、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明の(共)重合体は下記式(1)で表される構成単位 【化1】を含有するものであり、このレジスト用重合体を含有するレジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される構成単位を有する(共)重合体。

IPC (3件)：

C08F20/10 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

C08F20/10 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (25件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA40Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-311568   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (2件)

• (メタ)アクリル系重合体および感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-290461   出願人：JSR株式会社
• ラクトン構造を有する化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-114111   出願人：高砂香料工業株式会社