特許

J-GLOBAL ID：200903079232959828

基板処理設備

発明者： バイヒャルト,ユールゲン
出願人/特許権者： ウナクシス・バルツァース・アクティエンゲゼルシャフト
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  伊坪 公一 ,  水谷 好男 ,  西山 雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-500451
公開番号（公開出願番号）：特表2006-518930
出願日： 2004年01月13日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：

本発明は、処理ステーションを有する基板(特に、半導体ウエハ)(130)を処理する設備(特に、真空処理設備)に関するものである。この設備は、基板(130)を保持及び/又は搬送するキャリア(120)をクランプするフレーム(110)を有しており、これにより、基板(130)を表面全体でキャリア(120)に固定することができる。処理ステーションは、好ましくは、平坦な外部表面(141)を有するチャック電極(140)を有しており、このチャック電極(140)の外部表面(141)に平行に隣接してキャリア(120)を位置決め可能である。キャリアは、特に、非導電性の誘電体材料から構成されると共に、一方の面に導電性レイヤ(122)を備えており、この結果、チャック電極(140)とキャリア(120)が静電チャックを形成している。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの処理ステーション(582〜588)を備える、基板特に半導体ウエハ(130,230,330,430,530)を処理する設備特に真空プロセス設備であって、 前記基板(130,230,330,430,530)を保持及び/又は搬送するべく、前記設備は、内部にクランプされたキャリア(120,220,320,420,520)を有する少なくとも1つのフレーム(110,210,310,410,510)を有しており、前記基板(130,230,330,430,530)を大きな面積によって前記キャリア(120,220,320,420,520)に固定可能であることを特徴とする設備。

IPC (4件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

H01L21/68 R ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/302 201B ,  H01L21/205

Fターム (32件)：

5F004AA01 ,  5F004BA11 ,  5F004BB18 ,  5F004BB21 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BD04 ,  5F031CA02 ,  5F031DA13 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031HA02 ,  5F031HA16 ,  5F031HA18 ,  5F031HA38 ,  5F031HA39 ,  5F031HA45 ,  5F031MA04 ,  5F031MA26 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031PA11 ,  5F031PA18 ,  5F031PA20 ,  5F045AA03 ,  5F045DP02 ,  5F045DP13 ,  5F045EM02 ,  5F045EM03 ,  5F045EM05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 静電チャック及び半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-096125   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド, 株式会社神戸製鋼所, 神鋼コベルコツール株式会社
• 特許第6259592号
  
• 静電チャック装置及び載置台
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-092949   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社