特許
J-GLOBAL ID：200903079277215897
レーザ直接描画導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-196949
公開番号（公開出願番号）：特開2003-014965
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：
【要約】【課題】 ガラス導波路並の低散乱損失で、かつ優れた光学特性を有する新規なレーザ直接描画導波路及びその製造方法の提供。【解決手段】 従来のようなフォトリソグラフィ等を用いないで低屈折率層2で覆われたフォトブリーチング用ポリマ層3に紫外線レーザビームBを集光、照射しながら基板1側又はレーザビームBのいずれかを相対的に移動させてパターニングを行ない、光伝搬層となるコア層5及びそれをガイドする側面クラッド層6,6を形成する。これによってコア層5側面の荒れがなくなり、ガラス導波路並の低散乱損失でかつ優れた光学特性を有するポリマ導波路が得られる。
請求項（抜粋）：
基板上に、低屈折率層と、これより高屈折率のフォトブリーチング用ポリマからなるポリマ層と、このポリマ層より低屈折率の上部クラッド層とを順次積層してなるポリマ導波路において、上記ポリマ層に、紫外線レーザビームの照射されていない光伝搬領域となるコア層と、そのコア層の両側であって紫外線レーザビームの照射によって屈折率が低下した側部クラッド層を有し、かつそのコア層と側部クラッド層との界面の屈折率が連続的に変化していることを特徴とするレーザ直接描画導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 A
2H047KA04
, 2H047PA11
, 2H047PA22
, 2H047PA28
, 2H047QA05
