特許
J-GLOBAL ID：200903079296672298

走査型電子顕微鏡装置およびそれを用いた撮像方法

発明者：
宮本敦

宮本敦 について

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長友渉

長友渉 について

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松岡良一

松岡良一 について

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諸熊秀俊

諸熊秀俊 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-029928
公開番号（公開出願番号）：特開2007-250528
出願日： 2007年02月09日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】SEMを用いて試料を撮像するための撮像レシピの自動生成において、(1)検査を要する箇所が増大すると,撮像レシピの生成に膨大な労力と時間を要する。(2)生成された撮像レシピの正確さ,そして生成時間が問題となる。(3)作成時に予想できなかった現象により,作成した撮像レシピによる撮像あるいは処理が失敗する場合がある。【解決手段】(1)観察するための撮像ポイントの点数,座標,サイズ・形状,撮像シーケンス,撮像位置変更方法,撮像条件,撮像シーケンスの一部又は全てをCADデータから自動で算出するようにした。(2)撮像レシピ生成のための,入力情報,出力情報の組み合わせを任意に設定可能にした。(3)任意の撮像ポイントにおける撮像あるいは処理に対する成否判定を伴い、失敗したと判定された場合,撮像ポイントや撮像シーケンスを変更して撮像あるいは処理を成功させるリリーフ処理を行うようにした。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
パターンが形成された試料上の評価ポイントの座標を入力し、 前記試料上で前記評価ポイントを含む領域に形成されたパターンの設計レイアウト情報をCADデータから取得し、 処理パラメータ,ユーザ要求仕様,履歴情報,アドレッシングあるいはオートフォーカスあるいはオートブライトネス・コントラスト用の撮像ポイントの枚数,座標,サイズ,形状,撮像順序,電子ビーム垂直入射座標,撮像条件の一部又は全ての撮像パラメータを,入力情報として選択し、 アドレッシングあるいはオートフォーカスあるいはオートブライトネス・コントラスト用の撮像ポイントの枚数,座標,サイズ,形状,撮像順序,電子ビーム垂直入射座標,撮像条件,撮像ポイントあるいは撮像順序の評価値あるいは優先順位の一部又は全ての撮像パラメータを,出力情報として選択し、 前記入力した評価ポイントの座標情報と前記取得した設計レイアウト情報と前記選択した入力情報の値あるいは範囲を用いて前記選択された出力情報を算出し、 該入力情報および該出力情報の撮像パラメータを共に記憶し、 前記評価ポイントあるいは撮像ポイントにおけるパターンを登録テンプレートとして記憶し、 該記憶した撮像パラメータおよび登録テンプレートに基づいて試料上に形成されたパターンを順次撮像する ことを特徴とする走査型電子顕微鏡を用いた試料の撮像方法。
IPC (3件)：
H01J 37/22 ,  H01J 37/24 ,  H01J 37/28
FI (3件)：
H01J37/22 502J ,  H01J37/24 ,  H01J37/28 B
Fターム (3件)：
5C033UU05 ,  5C033UU06 ,  5C033UU10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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