特許
J-GLOBAL ID：200903079297470729
パターン修正装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-109517
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299059
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：
【要約】【課題】 比較的欠如幅の大きな欠陥でも修正が可能なパターン修正装置を提供する。【解決手段】 ペースト塗布機構3によりリブ欠け欠陥部23に修正ペースト24をはみ出る程度に塗布し、リブ22の上部をスキージ機構5を用いて整形し、IR光源6により塗布した修正ペーストを乾燥させ、カット用レーザ部2により修正ペースト24のはみ出し部をカットし、スクラッチ機構5を用いてはみ出し部を除去し、バキューム機能により修正かすを吸引除去した後、半導体レーザを用いて焼成する。
請求項（抜粋）：
基板の欠陥部を修正するためのパターン修正装置であって、前記基板がその上に載置されて水平方向に移動するテーブルと、前記基板の欠陥部に修正ペーストをはみ出る程度に塗布する針と、前記針を上下方向に移動可能な駆動機構と、前記塗布した修正ペーストを焼成あるいは前記欠陥部を切除するためのレーザ照射機構と、前記欠陥部からはみ出た余分な修正ペーストを除去するためのスクラッチ針機構とを備えた、パターン修正装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/50 A
, H01J 11/02 B
5C012AA09
, 5C040FA01
, 5C040FA02
, 5C040GF19
, 5C040JA25
, 5C040JA26
, 5C040MA26
