特許
J-GLOBAL ID：200903079301093757

噴霧水耕栽培法

発明者：
市山 幹雄

市山 幹雄 について


出願人/特許権者：
株式会社セントラルサン

株式会社セントラルサン について


代理人 (2件)： 友松 英爾 ,  岡本 利郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-215808
公開番号（公開出願番号）：特開2006-067999
出願日： 2005年07月26日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】 培養土を支持材とし、従来の農薬や化学肥料を用いない先願発明の噴霧水耕栽培法(噴霧耕)の問題点を解決し更に発展させた画期的な噴霧耕の提供。【解決手段】 (1)植物の根に直接ミスト状の液肥を供給する噴霧水耕栽培法において、植物の根が下方に向かって自由に伸張可能な底面を有する栽培培地容器を架台上に設置した栽培ベッドを使用し、この栽培培地容器に、培養土を含有する無菌化処理を施した栽培培地を敷き詰めて幼樹を育成すると共に、架台の下方の空間の開放面を遮光可能な素材で覆ってミスト噴霧室とし、該ミスト噴霧室の上方から下方に向って液滴の大きさが50μm以下の液肥ミストを噴霧することを特徴とする噴霧水耕栽培法。(2)網目状底部を有する栽培培地容器の底に不織布を敷き、その上に栽培培地を敷き詰めることを特徴とする(1)記載の噴霧水耕栽培法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
植物の根に直接ミスト状の液肥を供給する噴霧水耕栽培法において、植物の根が下方に向かって自由に伸張可能な底面を有する栽培培地容器を架台上に設置した栽培ベッドを使用し、この栽培培地容器に、培養土を含有する無菌化処理を施した栽培培地を敷き詰めて幼樹を育成すると共に、架台の下方の空間の開放面を遮光可能な素材で覆ってミスト噴霧室とし、該ミスト噴霧室の上方から下方に向って液滴の大きさが50μm以下の液肥ミストを間歇的に(連続的でなく休止時間を設けて)噴霧することを特徴とする噴霧水耕栽培法。
IPC (1件)：
A01G 31/00
FI (3件)：
A01G31/00 601C ,  A01G31/00 601A ,  A01G31/00 617
Fターム (23件)：
2B314MA14 ,  2B314MA24 ,  2B314MA27 ,  2B314MA31 ,  2B314MA33 ,  2B314MA35 ,  2B314MA38 ,  2B314MA46 ,  2B314MA48 ,  2B314NC16 ,  2B314PA12 ,  2B314PA18 ,  2B314PB22 ,  2B314PB30 ,  2B314PB31 ,  2B314PB49 ,  2B314PC02 ,  2B314PC03 ,  2B314PC16 ,  2B314PC18 ,  2B314PC25 ,  2B314PC47 ,  2B314PD66
引用特許：
出願人引用 (11件)
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