特許
J-GLOBAL ID：200903079376759050

加熱処理装置

発明者：
平山 鋼太郎

平山 鋼太郎 について


出願人/特許権者：
第一高周波工業株式会社

第一高周波工業株式会社 について


代理人 (1件)： 峯岸 武司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-311099
公開番号（公開出願番号）：特開2004-141474
出願日： 2002年10月25日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】過熱水蒸気を利用した回転式の加熱処理における処理温度の制約を無くすこと。【解決手段】回転しながら稼働する処理室1に過熱水蒸気を送給するための水蒸気過熱機構3bを処理室1に直結配置し、処理室1とともに回転しながら稼働する構成としたことで、過熱水蒸気送給経路上からロータリージョイントを除外し、ロータリージョイントの耐熱性起因の処理温度制約を解消した。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被処理物を収容して又は通過させながら回転する処理室を備え、この処理室に、水蒸気発生機構と水蒸気過熱機構とを備えた過熱水蒸気発生機構から過熱水蒸気を送給して前記被処理物を加熱処理する加熱処理装置において、 前記水蒸気過熱機構は、前記処理室に直結接続されていて、前記処理室と共に回転しながら稼働することを特徴とする加熱処理装置。
IPC (2件)：
A47J27/16 ,  H05B6/10
FI (4件)：
A47J27/16 Z ,  H05B6/10 301 ,  H05B6/10 311 ,  B09B3/00 303H
Fターム (22件)：
3K059AB23 ,  3K059AB28 ,  3K061GA06 ,  3K061KA02 ,  3K061KA13 ,  4B054AA04 ,  4B054AA16 ,  4B054AB06 ,  4B054AB20 ,  4B054BA01 ,  4B054BA10 ,  4B054BA16 ,  4D004AA03 ,  4D004AA04 ,  4D004AA07 ,  4D004CA22 ,  4D004CA28 ,  4D004CA42 ,  4D004CB09 ,  4D004CB31 ,  4D004CB33 ,  4D004CC01
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM